香蕉视频app下载

语言选择: 中文版 ∷  英文版

薄膜半导体材料制备系统

  • 磁控溅射仪
磁控溅射仪

磁控溅射仪


磁控溅射仪

衬底尺寸:4'为主,6'兼容。

溅射金属膜厚均匀性要求:≤±5%

靶位:4个。

极限压力:<6.6×10-6e Pa

靶材尺寸:3英寸。

可溅射磁性材料。

靶与样品距离可调,且可以在30度角度内摆头。

配置load-lock,可放置56英寸样品,在高真空状态下,由电动马达分别传送每片样品,顺序溅射每片样品,逐一完成5片溅射镀膜。

样品台可加热至750度,可旋转。

全自动真空度控制模块。

气路:ArO2N2

射频电源:2个,每个600W

直流电源:2个,每个1000W


芭乐app官网,芭乐官网app下载,芭比视频下载app最新版ios,芭乐app官方下载入口,芭乐app下载汅api在线 芭乐app官网,芭乐官网app下载,芭比视频下载app最新版ios,芭乐app官方下载入口,芭乐app下载汅api在线 小蝌蚪app下载大全官网,小蝌蚪下载app最新版大全,小蝌蚪app下载汅api免费下载,小蝌蚪app下载大全—丝瓜,小蝌蚪xkdsp皇冠棋牌